一般ラボにおける水の要件
ガラス器具の洗浄
手作業か特別に設計された装置を使用するかに関わらず、ガラス製品や器具の洗浄は日常的に発生する作業です。 ほとんどの用途ではIII型水で十分ですが、より敏感な手法ではII型水を使用する必要があります。 細胞培養、ICP-MS、臨床技法といった重要な用途では、ガラス器具を超純水（I型水）で洗浄する必要があります。
加熱浴
多くの種類のラボで加熱浴が使用されています。 多くの場合、これは調節された一定温度を維持することを目的としているため、加熱浴は水道水で十分であると考えられています。 これは間違ってはいませんが、スケーリングにより大きな問題が発生し、メンテナンス間隔と製品の寿命に影響します。 一方で、水の純度が高すぎると、錆が発生する可能性があります。 そのため、加熱浴にはIII型水が適切と言えます。
オートクレーブ処理
オートクレーブは医療用途において機器の滅菌のために使用されます。 これにより、機器を高圧蒸気に曝し、100oC以上の温度で水分を保持させたまま物体を加熱します。
蒸気発生装置
蒸気発生装置は、クリーンルームの加湿、オートクレーブ、滅菌器など、さまざまな用途に使用されています。 ほとんどの蒸気発生装置は、水を前処理することで堆積を回避することができます。 蒸気発生装置にはIII型水を使用できますが、医療環境の殺菌用途に蒸気を使用する場合は、当局が規制している厳格な仕様を確認することが勧められます。
水はラボの非常に多くの分野で重要な役割を果たしています。 一般的に手法自体に焦点が当てられがちですが、水の残留物による汚染が重要な用途に影響を及ぼす可能性があるため、ガラス器具の洗浄など、一般ラボの処理で使用される水質は同様に重要となります。
ほとんどの一般ラボ要件においては、水道水を使用することによるスケーリングの影響を考慮に入れる必要があります。 水中の不純物により、製品の効率性やメンテナンス、寿命に影響が発生します。 III型水を用いることで、こうした問題を軽減することができます。
水の要件
必ず用途に適した種類の水をお使いください。 以下は一般ラボ用途の要件です。
| 必要な感度 | 比抵抗値 （MΩ.cm）* | TOC （ppb） | フィルター (µm) | 細菌（CFU/ml） | エンドトキシン（EU/ml） | ヌクレアーゼ | 水質等級 | |
| ガラス器具の洗浄 | 一般レベル 高 | >1 >18 | <50 <10 | <0.2 <0.2 | <10 <1 | NA NA | NA NA | II+ I |
| 蒸気発生装置 | 一般レベル | >1 | <50 | <0.2 | <1 | NA | NA | I |
| 蒸留器への供給 | 低 | >0.05 | <500 | NA | NA | NA | NA | 一次水 |
| 超純水システムへの供給 | 一般高レベル | >0.05 >1 | <50 <10 | NA <0.2 | NA <1 | NA NA | NA NA | 一次水 超純水 |
| 試料希釈と試薬調製 | 一般高レベル | >1 >18 | <50 <10 | <0.2 <0.2 | <1 <1 | NA NA | NA NA | 一般ラボ 超純水 |
| 固相抽出 | 一般高レベル | >1 >18 | <50 <3 | <0.2 <0.2 | <10 <1 | NA NA | NA NA | 一般ラボ 超純水 |
| 蒸気発生装置 | 一般レベル | >1 | <50 | <0.2 | <1 | NA | NA | 一般ラボ |
| 水質分析 | 一般高レベル | >5 >18 | <50 <10 | <0.2 <0.2 | <10 <1 | NA NA | NA NA | 一般ラボ 超純水 |
